激光打标机器的行业须知「恒元雕刻机」

激光打标机器

由于半导体泵浦的转换，模式好，更易聚焦出高能量的更小面积的光点，标记同样的物体时，其所需的外部能量会更小。同时其产生的废热也远远小于灯泵浦激光器，决定了其不需要灯泵浦激光器那样庞大的冷却系统。关于避免结露防止激光晶体及LD腔面结露禁止激光器系统在高湿度环境下工作，客户应确保环境湿度小于60%。所以半导体泵浦的激光器系统的功耗比灯泵浦小得多。

一个50W的灯泵浦激光打标机的功耗在6KW左右，而一个50W半导体激光标记机的功耗只在2KW左右，以三年为例，一天工作24小时，一个月工作28天，一度工业用电1.1元，光耗电一项，一台半导体激光器就比一台灯泵浦激光器节省（6-2）KW*24小时*28天*12月*3年*1.1/度=10.645万 元！例如，电子工业中使用准分子激光器在基底材料上沉积化学物质薄膜，在半导体基片上开出狭窄的槽。

打标机具体注意事项

一、激光打标机应尽可能在无尘、10℃-35℃的环境中使用，保持光学器件干燥、无尘。通常需要保证单独的封闭工作间，要保证室内恒温，地面要有地面漆或瓷砖，安装空调；

　　第二、客户须提供主电源支持至少2500W交流单相电源，且我司提供设备主电源线须安装在一个空气开关上，以做保护，严禁使用三角插头；

　　第三、客户所提供的主电源须带有地线，严禁虚接！

　　第四、循环水箱中冷却水好使用去离子水，若无去离子水，可用蒸馏水代替;循环冷却水使用一段时间后应及时更换(建议至少两星期换一次水），以免影响出激光效率。

1.高功率激光系统和核聚变研究 1964年王淦昌***提出激光聚变倡议，1965年立项开始研究。经几年努力，建成了输出功率10（上标10）瓦的纳秒级激光装置，并于1973年5月在低温固靶、常温化锂靶和化聚乙烯上打出中子。1974年研制成功我国一台多程片状放大器，把激光输出功率提高了10倍，中子产额增加了一个量级。防止灰尘污染电源和激光头的光纤接入口在未与光纤连接的状态下，必须安装随系统提供的保护盖，防止外部灰尘污染内部光学元件。在国际上向心压缩原理后，积极跟踪并于1976年研制成六束激光系统，对充气玻壳靶照射，获得了近百倍的体压缩。这一系列的重大突破，使我国的激光聚变研究进入世界***行列，也为以后长期的持续发展奠定了基础。

2.激光研究 1966年12月，科委主持召开了激光规划会，48个单位130余人参加，会议制定了包括含15种激光整机、9种支撑配套技术的发展规划。虽未正式批准生效，但仍起了有益的推动作用。此后的几年内，这一领域涌现了一批重要成果。

激光喷码机的优势主要有如下几个方面：

1、降低生产成本，减少耗材，提高生产效率。

2、防伪效果明显，激光喷码技术可以有效的对产品标识起到***作用。

3、有利于产品跟踪记录，激光喷码机可以打出产品的批号生产日期，班次等。可以使每一件产品得到很好的跟踪性能。

4、增加附加值，可以使产品看上去档次更高。提升产品品牌的度。

5、设备可靠，激光标刻（打码）机具有成熟的工业设计，性能稳定可靠，可24小时连续工作，激光器免维护时间长达2万小时以上。温度适应范围宽（5℃—45℃），广泛适用于各行业生产包装领域。

6、环保、安全，激光打码机不产生任何对***和环境***的化学物质。符合GB7247-87；GB10320-88标准。是环保型高科技产品。